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  • PECVD等离子体增强气相沉积

    PECVD等离子体增强气相沉积是一款1200℃等离子增强混合物理化学气相沉积(HPCVD)双温区回转炉系统源(带自动匹配功能)、上游原位蒸发舟、4通道质子流量计控制系统及性能优异的真空泵组成。此于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆(如:制备锂离子电池阴极粉末的导电涂层等)。

    更新日期:2024-12-04
    型号:
    厂商性质:代理商
  • OTF-1200X-II-PEC41200℃等离子增强HPCVD回转炉系统

    1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统,OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等离子增强混合物理化学气相沉积(HPCVD)双温区回转炉系统源(带自动匹配功能)、上游原位蒸发舟、4通道质子流量计控制系统及性能优异的真空泵组成。此于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆(如:制备锂离子电池阴极粉末的导电涂层等)。

    更新日期:2024-12-04
    型号:OTF-1200X-II-PEC4
    厂商性质:代理商
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