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CVD气相沉积
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CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积)是一种用于薄膜沉积的技术。它通过将气态化学前驱体反应成固态沉积物,在基材表面形成薄膜。CVD广泛应用于半导体制造、光伏设备、涂层和材料科学等领域。
GSL-1700X-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统,它是由二路质子混气系统和高真空机组组度可达1600℃,极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导
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